（原标题：京东方A苦求低折射率分子、材料和低折射率薄膜、发光器件专利）成都服务调查

金融界2023年12月23日音书，据国度学问产权局公告，京东方科技集团股份有限公司苦求一项名为“低折射率分子、材料和低折射率薄膜、发光器件“，公开号CN117263971A，神秘顾客新闻苦求日历为2023年9月。

专利摘要浮现，本苦求触及一种低折射率分子，所述低折射率分子为式(Ⅰ)、式(Ⅱ)或式(Ⅲ)暗示的分子中的一种。

本文源自：金融界

作家：谍报员成都服务调查

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